ТРИОРГАНОАРСИНЫ (третичные арсины), соед. общей ф-лы R3As. Триалкиларсины, как правило, жидкости. три-ариларсины обычно твердые вещества (см. табл.); раств. в орг. растворителях, не раств. в воде [за исключением (CH3)3As].
триорганоарсины обладают высокой термостабильностью [напр., (CH3)3As и (CF3)3As разлагаются при температуре 350 °С], относительно легко присоединяют О2, S, Se, Hal2, образуя соответствующие производные As(IV) и As(V). триорганоарсины-слабые основания, их соли с HHal и комплексы с кислотами Льюиса неустойчивы. Известны относительно устойчивые комплексы триорганоарсины с галогенидами и карбонилами переходных металлов. например [(C6H5)3As]2-Ru(CO)3, C6H4[As(CH3)2]2-Fe(CO)3. При действии RHal триорганоарсины образуют соед. арсония типа [R4As]+Hal-. Связь As—С расщепляется при действии нуклеофилов на перфторалкил- и хлорвиниларсины, щелочных металлов. О2 и Н2 при высоких температурах, а также при электролизе или радиолизе. Взаимодействие триорганоарсины с азидами приводит к иминоарсинам, например: (C6H5)3As + + N3CN:(C6H5)3As = NCN + N2.
триорганоарсины получают действием RMgHal на As2O3 или AsX3 (X = Hal, OR), реакцией R2Zn с AsCl3, совместным действием Na и RHal на AsHal3, присоединением арсинов RnAsX3-n (X = H, Hal; n = 0-2) к непредельным соединениям, трис-(Полифторалкил)арсины получают алкилированием As по-лифториодалканами.
Триалкиларсины используют в электронной промышленности для легирования эпитаксиальных слоев.
350 °С], относительно легко присоединяют О2, S, Se, Hal2, образуя соответствующие производные As(IV) и As(V). триорганоарсины-слабые основания, их 